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中科院研究員澄清5nm光刻機技術為誤讀：國產水平在180nm
國內的光刻機到底在什么水平？一位半導體產業(yè)界資深人士對AI財經社說，目前可以實現180nm制程，但還在試用階段，仍需要攻克。 -
國產水平在180nm，中科院研究員澄清5nm光刻機技術為誤讀
國內的光刻機到底在什么水平？一位半導體產業(yè)界資深人士對AI財經社說，目前可以實現180nm制程，但還在試用階段，仍需要攻克。
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